熱重分析質譜儀就是將熱重分析儀（TGA）與質譜儀聯用，可以檢測到非常低含量的雜質，這一手段越來越受歡迎。然而，在實時監測時，TG-MS聯用會因多重反應同時發生或者高質量離子掩蓋低質量的而使結果變得混亂復雜。在此體系中加入氣相（GC），多重反...
基本型等離子清洗機也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態，并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子...
去膠工藝是微加工工藝過程中一個非常重要的工藝環節。在光刻工藝之后，我們往往需要面臨顯影后的底膠去除或者干法蝕刻工藝后變性的光刻膠的去除工作，這些環節中光刻膠去除的是否干凈*以及對樣片是否有損傷等將直接影響到后續工藝的進行以及器件的性能。微波...
氣體流量混合器在工業和科學上都有重要的意義。流量測量是一門迅速發展的技術，為了滿足各行各業、各種工況的各種流體的流量測量需要，儀表研究機構研究開發了各種原理的流量計，制造廠每年都有新型流量計供應市場。流量計是工業測量中重要的儀表之一。需要測...
激光二極管測試儀器是針對二極管分選設備而專門設計配套的智能型測試儀器，主要用于二極管在恒定電流時其兩端的正向電流電壓，反向恒壓時測量其反向漏電流。儀器也可以用作一般直流電壓源、電流源使用，因此是一種多功能、多用途的實驗室儀器。儀器精度高速度...
靜態滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態滴膠方式是在基片低速...
基本型等離子清洗機已應用于各種電子元件的制造，可以確信，沒有等離子清洗機及其清洗技術，就沒有今日這么發達的電子、資訊和通訊產業。此外，等離子清洗機及其清洗技術也應用在光學工業、機械與航天工業、高分子工業、污染防治工業和量測工業上，而且是產品...
AT-400原子層沉積是指通過將氣相前驅體交替脈沖通入反應室并在沉積基體表面發生氣固相化學吸附反應形成薄膜的一種方法原子層沉積過程由A、B兩個半反應分四個基元步驟進行：1）前驅體A脈沖吸附反應；2）惰氣吹掃多余的反應物及副產物；3）前驅體B...
微波等離子去膠機具有操作簡單、效過好、無損傷、無劃痕、無殘留物、表面干凈光沾、無須干燥處理的特點。能夠去除較難處理的SU-8光刻膠或經列體面改性的長部能工作氣體可以采用氧氣和氫氣的混合物。利用象您氣體與5一8光到膠的化學反應能夠快速將其去除...
勻膠旋涂機設備，包括弧形板，儲膠區，導流板，支撐柱和固定板，弧形板的弧度與使用的上膠輥外壁相同，弧形板的一側設置有儲膠區，與其對應的另一側設置有導流區，弧形板頂部中心設置有兩個相同的支撐柱，任意支撐柱頂部設置有螺母，任意支撐柱和螺母之間設置...
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