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微波去膠機主要利用微波能量激發(fā)等離子體，使氣體分子電離產(chǎn)生大量高能活性粒子。這些活性粒子與光刻膠發(fā)生化學反應，將光刻膠分解為揮發(fā)性物質(zhì)，從而達到去除光刻膠的目的。例如，在氧氣環(huán)境中，微波激發(fā)產(chǎn)生的氧離子等活性粒子能與光刻膠中的有機成分反應，...

PIETergeo-pro等離子清洗機成功安裝案例：助力山東高等研究院科研升級近日，我公司銷售的美國PIE公司的Tergeo-pro等離子清洗機在山東高等研究院完成了成功安裝與調(diào)試，標志著雙方在科研設(shè)備領(lǐng)域的合作邁出了堅實一步。此次設(shè)備的順...

旋涂顯影系統(tǒng)是半導體制造、微電子加工以及光學器件制備等領(lǐng)域中至關(guān)重要的工藝設(shè)備之一。它主要通過高速旋轉(zhuǎn)的方式，將液態(tài)的光刻膠均勻地涂覆在硅片等基底表面，隨后經(jīng)過顯影等后續(xù)處理，形成所需的圖案，為后續(xù)的蝕刻、摻雜等工藝步驟奠定基礎(chǔ)。旋涂顯影系...

薄膜沉積系統(tǒng)的核心功能模塊通常包括真空腔體、氣源供應系統(tǒng)、能量輸入裝置及過程控制系統(tǒng)。真空腔體作為反應環(huán)境載體，需維持特定壓力范圍以調(diào)控氣相分子的平均自由程，從而優(yōu)化薄膜生長動力學。氣源供應系統(tǒng)通過精確配比不同氣體組分，實現(xiàn)薄膜化學成分的靈...

等離子刻蝕ICP技術(shù)以其高精度、高效率和高選擇性在微納加工領(lǐng)域中發(fā)揮著重要作用。通過了解其原理、應用及設(shè)備選擇和操作方法，可以更好地利用這一技術(shù)進行微電子器件、生物芯片和納米結(jié)構(gòu)的制備。等離子刻蝕ICP設(shè)備的維護保養(yǎng)方法涉及多個方面：1.儀...

在納米科技和半導體工業(yè)的浪潮中，勻膠旋涂儀以其特殊的魅力，成為了材料制備和薄膜沉積過程中不可少的工具。這種設(shè)備通過高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力將液體均勻地鋪展在基片表面，形成一層厚度可控、均勻性好的薄膜。這一過程不僅體現(xiàn)了物理學中離心力的巧妙應...

在半導體制造的精細工藝中，刻蝕、顯影與清洗是三個至關(guān)重要的步驟。它們共同構(gòu)成了芯片生產(chǎn)中不可少的一環(huán)，確保了電路圖案的準確轉(zhuǎn)移和芯片性能的穩(wěn)定。刻蝕顯影清洗系統(tǒng)是利用化學或物理方法去除材料表面特定區(qū)域的過程，它是半導體器件制造中形成微小結(jié)構(gòu)...

熱重分析質(zhì)譜儀(TG-MS)是一種結(jié)合了熱重分析(TG)和質(zhì)譜分析(MS)的分析技術(shù)，廣泛應用于材料科學、化學工程以及環(huán)境監(jiān)測等領(lǐng)域。1.熱重分析(TG)：熱重分析是指在程序控制溫度下測量待測樣品的質(zhì)量與溫度變化關(guān)系的一種熱分析技術(shù)。通過記...

等離子清洗機主要由真空系統(tǒng)、氣體供應系統(tǒng)、射頻發(fā)生器、控制系統(tǒng)等部分組成。工作原理是：首先將待處理的材料放入真空室中，通過真空泵將真空室內(nèi)的氣壓降低到一定程度；然后向真空室內(nèi)通入惰性氣體(如氬氣、氮氣等)，在射頻電場的作用下，氣體分子被激發(fā)...

激光二極管，簡稱LD，是現(xiàn)代光電技術(shù)中不可少的核心組件，廣泛應用于光通信、醫(yī)療、工業(yè)加工及消費電子產(chǎn)品等領(lǐng)域。隨著技術(shù)的發(fā)展和應用需求的擴大，對激光二極管性能的測試變得尤為重要。激光二極管測試儀器便是專門用來評估和保證激光二極管性能的關(guān)鍵設(shè)...