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  • Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)
    Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)

    Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺(tái)上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。*的反應(yīng)器設(shè)計(jì)可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺(tái)階覆蓋的低應(yīng)力薄膜。該系統(tǒng)可以滿足實(shí)驗(yàn)室和中試生產(chǎn)環(huán)境中的所有安全,設(shè)施和工藝標(biāo)準(zhǔn)要求。

    更新時(shí)間:2025-05-09型號(hào):Trion Orion III PECVD瀏覽量:1649
  • Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
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    Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    更新時(shí)間:2019-01-15型號(hào):Trion Orion HDCVD瀏覽量:1524
  • Minilock-Orion III PECVDPECVD沉積
    Minilock-Orion III PECVDPECVD沉積

    PECVD沉積可選配一個(gè)三極管(Triode)或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,從而控制薄膜應(yīng)力。

    更新時(shí)間:2024-06-17型號(hào):Minilock-Orion III PECVD瀏覽量:2681
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