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  • Post-CMP Cleans
    Post-CMP Cleans

    光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Post-CMP Cleans是一款由杜邦研發與生產的清洗劑,PCMP清洗劑適用于前端工藝(FEOL)中的氧化鈰、多晶硅、二氧化硅材料,中端工藝(MEOL)中的鎢材料,以及后端工藝(BEOL)中的銅材料制程

    更新時間:2025-06-27型號:瀏覽量:45
  • Post-Etch Cleans
    Post-Etch Cleans

    光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Post-Etch Cleans是一款由杜邦研發與生產的用于鋁(Al)和銅(Cu)互連結構的蝕刻后殘留物去除劑(PERR)

    更新時間:2025-06-27型號:瀏覽量:24
  • LED, TSV,  WLP Cleans
    LED, TSV, WLP Cleans

    光刻膠蝕刻殘留物清洗劑LED, TSV, WLP Cleans是一款由杜邦研發與生產的LED、TSV、WLP 清洗試劑

    更新時間:2025-06-27型號:瀏覽量:32
  • Post-Patterning Cleans
    Post-Patterning Cleans

    光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Post-Patterning Cleans是一款由杜邦研發與生產的光刻膠去除劑與剝離劑

    更新時間:2025-06-27型號:瀏覽量:27
  • Emerging Cleans
    Emerging Cleans

    光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans 是一款杜邦研發并生產的光刻膠去除劑

    更新時間:2025-06-27型號:瀏覽量:5348
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