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Harrick等離子清洗機(jī)的清洗原理與超聲波原理不同,當(dāng)艙體里接近真空狀態(tài)時(shí),開(kāi)啟射頻電源,這時(shí)氣體分子電離,產(chǎn)生等離子體,并且伴隨輝光放電現(xiàn)象,等離子體在電場(chǎng)下加速,從而在電場(chǎng)作用下高速運(yùn)動(dòng),對(duì)物體表面發(fā)生物理碰撞,等離子的能量足以去除各...
2018-12-28在深圳大學(xué)順利安裝完成我司供應(yīng)的晶圓鍵合機(jī),并現(xiàn)場(chǎng)培訓(xùn)與講解了機(jī)器各性能、使用與保養(yǎng)。
光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x被廣泛用于表界面研究的科研、開(kāi)發(fā)和質(zhì)量控制。可以幫助您輕松準(zhǔn)確地表征您所需了解的表面情況,從而節(jié)省您寶貴的時(shí)間和經(jīng)費(fèi)。從研究到快速的質(zhì)量控制,光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x系列產(chǎn)品使這些應(yīng)用簡(jiǎn)單可行。系列產(chǎn)品的多功能性,能滿足您需要的所有...
等離子清洗機(jī)適用于LCD產(chǎn)品的端子清潔,大幅度的提高產(chǎn)品表面的浸潤(rùn)性能,形成活性的表面;除去灰塵和油污,精細(xì)清洗和去靜電;通過(guò)表面涂層處理提供功能性的表面,提高表面的附著能力,提高表面粘接的可靠性和持久性。等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn):1.環(huán)保技術(shù)...
激光二極管測(cè)試儀器提供一個(gè)高達(dá)500毫安低噪聲電流源和一個(gè)36W高精密溫度控制器,與標(biāo)準(zhǔn)計(jì)算機(jī)接口。主要用來(lái)測(cè)試和控制激光二極管,并對(duì)其有保護(hù)、確定穩(wěn)定工作等特性。其中激光器電流源能提供非常穩(wěn)定的電流輸出,同時(shí)還采取了很多措施保護(hù)激光器如:...
等離子清洗機(jī)是一種干法清洗,主要清洗很微小的氧化物和污染物。等離子清洗機(jī)是用工作氣體在電磁場(chǎng)的作用下激發(fā)出等離子體與物體表面產(chǎn)生物理和化學(xué)反應(yīng),從而達(dá)到清洗的目的。因?yàn)榈入x子清洗機(jī)的成本較低而且操作簡(jiǎn)單靈活,可以方便的變更處理氣體的種類和處...
勻膠旋涂?jī)x產(chǎn)品概述:旋涂是一種廣泛使用的多功能技術(shù),用于將材料沉積到基材上,從而獲得可控的薄膜厚度。該款勻膠旋涂?jī)x價(jià)格實(shí)惠,操作簡(jiǎn)單,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,占地空間小,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。該款勻膠旋涂?jī)x采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的托盤,無(wú)需真空泵或充氮...
微波等離子去膠機(jī)是半導(dǎo)體工業(yè)及從事微納加工工藝研究的必要設(shè)備,主要用于半導(dǎo)體加工工藝及其它薄膜加工工藝過(guò)程中,各類光刻膠的干法去除、基片清洗和電子元件的開(kāi)封等。微波等離子去膠機(jī)主要應(yīng)用:等離子體表面改性、有機(jī)物表面等離子體清潔、等離子體刻蝕...
等離子清洗機(jī)原理是在真空狀態(tài)下使電極之間形成高頻交變電場(chǎng),區(qū)域內(nèi)氣體在交變電場(chǎng)的激蕩下,形成等離子體,活性等離子對(duì)被清洗物進(jìn)行物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用,使被轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用,使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子,和氣態(tài)物質(zhì),經(jīng)過(guò)抽真空排出,而...
微波等離子去膠機(jī)是石英腔的微波等離子系統(tǒng),可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理,也可以作為單片處理,系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的系統(tǒng)。典型工藝包含:大劑量離子注入后的光刻膠去除;干法刻蝕工藝的前處理或后處理;MEMS制造中...