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微波去膠機的這些知識值得我們學習

發(fā)布時間: 2025-06-05  點擊次數(shù): 30次
  微波去膠機主要利用微波能量激發(fā)等離子體,使氣體分子電離產(chǎn)生大量高能活性粒子。這些活性粒子與光刻膠發(fā)生化學反應,將光刻膠分解為揮發(fā)性物質(zhì),從而達到去除光刻膠的目的。例如,在氧氣環(huán)境中,微波激發(fā)產(chǎn)生的氧離子等活性粒子能與光刻膠中的有機成分反應,將其氧化分解;關鍵部件及功能:
 
  -微波源:是產(chǎn)生微波的核心部件,其頻率和功率決定了等離子體的產(chǎn)生效率和特性。通過調(diào)節(jié)微波源的功率,可以控制等離子體的強度和活性粒子的密度,從而影響去膠速度和效果。
 
  -真空系統(tǒng):用于抽取腔體內(nèi)的氣體,創(chuàng)造一定的真空環(huán)境。合適的真空度有助于增加電子運動的平均自由程,使氣體分子更容易被微波電離,同時也有利于提高等離子體的穩(wěn)定性和均勻性。
 
  -氣體控制系統(tǒng):準確控制進入腔體的氣體種類和流量。不同的氣體在等離子體中會產(chǎn)生不同的活性粒子,對光刻膠的去除效果和基底的影響也不同。例如,氧氣常用于氧化去除光刻膠,氬氣則可用于物理濺射輔助去膠。
 
  微波去膠機的主要類型:
 
  -按頻率分:常見的有13.56MH和2.45GH兩種頻率的。13.56MH的在半導體制造等領域應用廣泛,其等離子體密度較高,能實現(xiàn)更精細的去膠處理;2.45GH的則常用于一些對去膠速度要求較高、精度要求稍低的場合。
 
  -按腔體材質(zhì)分:可分為石英腔和不銹鋼腔等。石英腔的微波等離子系統(tǒng)具有更好的電磁兼容性和化學穩(wěn)定性,適用于對腔體純凈度要求較高的工藝,如半導體芯片制造;不銹鋼腔則成本相對較低,更耐腐蝕,適用于一些對腔體要求不特別苛刻的應用。
 
  微波去膠機的應用領域:
 
  -半導體制造:在半導體芯片制造過程中,用于去除光刻工序后的光刻膠,以及進行干法刻蝕的前處理或后處理,能有效避免對芯片基底的損傷,提高芯片制造的良品率。
 
  -電子封裝:可防止包封分層,提高焊線質(zhì)量、鍵合強度和封裝的可靠性,尤其適用于多接口的封裝。
 
  -科研實驗:在材料科學、微納加工等科研領域,用于樣品表面的清潔、改性和微觀結(jié)構(gòu)的制備等研究工作。
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