高功率等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。等離子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發生重組，形成新的表面特性。

　　對某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。

　　高功率等離子清洗機的基本構造，根據用途的不同，可選用多種構造的等離子清洗設備，并可通過選用不同種類的氣體，但等離子體清洗裝置的基本結構大致是相同的，一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、電極、氣體導入系統、工件傳送系統和控制系統等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉油泵，高頻電源通常用13.56M赫茲的無線電波，設備的運行過程如下：

　　（1）被清洗的工件送入真空室并加以固定，啟動運行裝置，開始排氣，使真空室內的真空程度達到10Pa左右的標準真空度。一般排氣時間大約需要2min。

　　（2）向真空室引入等離子清洗用的氣體，并使其壓力保持在100Pa。

　　根據清洗材質的不同，可分別選用氧氣、氫氣、氬氣或氮氣等氣體。

　　（3）在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發生離子化和產生等離子體。讓在真空室產生的等離子體*籠罩在被處理工件，開始清洗作業。一般清洗處理持續幾十秒到幾分鐘。

　　（4）清洗完畢后切斷高頻電壓，并將氣體及汽化的污垢排出，同時向真空室內鼓入空氣，并使氣壓升至一個大氣壓。